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Wet Station

PRODUCT

Wet Station

  • 01

    Wet Station의 핵심기술은 Etching Bath내 균일한 Flow 유도 및 물반점 없이 기판을 건조하는 것입니다.

  • 02

    Guide 설계기술, 배관 설계기술 등과 함께 고품질을 제공합니다.

  • 03

    특히, 친수성과 소수성이 공존하는 패턴의 경우 IPA Marangoni Dryer보다는 IPA Spray Dryer를 추천드립니다.

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  • 0
    Cassette Type & Cassette Less Type Batch Cleaner
    Cassette Type & Cassette Less Type Batch Cleaner
    01
    200mm, 300mm Wafer 세정 (25매 또는 50매 동시 처리 가능) Flow Simulation 기반 설계
    02
    최적의 건조 기법 제안 및 Maintenance 용이한 Compact 구조 설계
    03
    반도체 수준의 고품질 세정을 요하는 부품세정 응용 가능
  • 1
    Bath내 Flow Simulation 후 제작
    Bath내 Flow Simulation 후 제작
    01
    Wafer 표면의 속도 균일도 개선으로 Etch Uniformity 향상, Particle 재부착 최소화
    02
    300mm Wafer, Narrow Gap 4.225mm(Half Pitch 5mm) Flow Simulation
    03
    Bottom Up Flow에 의한 부채꼴 형상으로 속도 균일도 및 와류 최소화 유도 → DIW와 유사한 물성을 가진 색소로 가..

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